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Luogo di origine: | Cina |
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Marca: | FUNSONIC |
Certificazione: | CE |
Numero di modello: | FSW-3002-L |
Quantità di ordine minimo: | 1 unità |
Prezzo: | Negotation |
Imballaggi particolari: | Imballato da cartone |
Termini di pagamento: | T/T, Western Union |
Capacità di alimentazione: | Unità 1000 al mese |
Nome della produzione: | Atomizzazione da ugello ad ultrasuoni a 30 Khz | Frequenza: | 30 kHz |
---|---|---|---|
Potenza massima: | 50W | Intervallo di dimensioni delle particelle automatizzate: | 15-40 μm |
Flusso dello spruzzo: | 0.5-20 ml | Viscosità del liquido: | < 30cps |
Dimensione delle particelle: | < 12 μm | Applicazione: | Adatti per la spruzzatura a superficie completa del flusso |
Evidenziare: | Nozzolo di dispersione a spruzzo ad ultrasuoni a bassa potenza,Lenti a semiconduttore con ugello di dispersione ad ultrasuoni,Nozzolo di dispersione a spruzzo ad ultrasuoni 30Khz |
30Khz Lente semiconduttrice spruzzo ad ultrasuoni ugello di dispersione con bassa potenza
Descrizione:
L'applicazione tipica di ugelli ad ultrasuoni di tipo dispersione è il rivestimento fotoresistente sui chip semiconduttori, in cui il fotoresistente viene spruzzato sui chip semiconduttori.A causa della dispersione rotazionale della nebbia emessa dall'ugello ad ultrasuoni di tipo dispersione, un film fotoresistente uniforme può essere formato non solo sul piano del wafer, ma anche sulle pareti laterali e sugli angoli della microstruttura del wafer.gli ugelli ad ultrasuoni di dispersione possono essere utilizzati anche per rivestimenti di celle solari a pellicola sottile, rivestimenti per celle solari al titanato di calcio, rivestimenti per pellicole di trasmissione e riflessione AR, rivestimenti per pellicole isolanti, rivestimenti per rivestimenti superidrofobici, rivestimenti per flussi di PCB e altre applicazioni.
Parametri:
Modello | FSW-3002-L |
Nome | 30Khz Dispersione dell'atomizzazione dell'ugello ad ultrasuoni |
Frequenza | 30 Khz |
Intervallo di dimensioni delle particelle atomizzate ((μm) | 15-40 |
Larghezza dello spruzzo ((mm) | Da 40 a 80 |
Flusso di spruzzo ((ml/min) | 0.5-20 |
Altezza dello spruzzo ((mm) | Da 30 a 80 |
Viscosità del liquido (cps) | < 30 |
Dimensione delle particelle (μm) | < 15 |
Pressione di deviazione (Mpa) | < 0.05 |
Applicazione | Adatti per rivestimenti fotoresistenti su chip semiconduttori |
Vantaggi:
1. spruzzatura su grandi superfici, larghezza di spruzzatura: 40-150 mm
2Uniformità del rivestimento: > 95%
3Risparmio di materie prime: il tasso di utilizzazione delle materie prime è superiore all'85%, il che è 4 volte superiore alla tradizionale spruzzatura con due fluidi.
4. Alta precisione nel controllo dello spessore del rivestimento: può preparare rivestimenti che vanno da 20 nm a decine di micrometri, con un controllo preciso dello spessore del rivestimento
5. particelle fine atomizzate
6. Uniforme atomizzazione delle particelle
7. Può essere spruzzato in modo intermittente o continuo
8. Ultra basso flusso di spruzzo
9Non blocca l'ugello
10. ugello anticorrosione
11. Alta precisione e spruzzatura controllabile
30Khz Lente semiconduttrice spruzzo ad ultrasuoni ugello di dispersione con bassa potenza